第207章 最起码的尊重(2/2)

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而且每打击一次,他就会更强一次,跟个赛亚人一样。

要不是被李东连番打击,这货怎麽会报名CUMCM?

这不就是越挫越勇的典范吗?

李东在心里默默想道。

耗子,你放心。

到时候你那份国赛作品要是真能进终评,我一定会……

认真严格地检查你的每一个模型假设、每一行代码注释、每一条参考文献。

绝不偷懒。

这是东哥能给你的,最起码的尊重。

李东笑着摇了摇头,起身去泡面,然後三下五除二的解决掉以後就准备开始干活了。

他闭上眼睛,所有属性直接拉满。

这次!他不光要记,还要理解……

记忆宫殿的大门“哢哒”一声被推开。

周围的声音渐渐离他远去

窗外的风声、王浩床帘里那若有若无的呜咽……

……

魔都,华轩科技,光刻研发中心地下三层。

张默的操作着平板电脑,手心里全是汗。

平板上显示着一条条数据……

浸没腔内三维流热耦合场的实时压力梯度、折射率涨落、液膜厚度的亚纳米级抖动……

所有这些在过去被视为“不可实时求解”的参数,现在每三微秒就在他的平板上刷新一次。

他深吸了一口气,抬起头,声音都在发抖。

“林总。”

“已经可以了。”

一向最沉得住气的林伟,此刻坐在他对面,手里拿着一张打印出来的系统状态报告。

他的手也在抖。

“走。”

林伟站起身,只说了一个字。

张默立刻领着他,快步朝着一号验证舱走去。

很快验证舱的双重气密门打开了,林伟走了进去,张默紧随其後。

此时验证舱里的人都是国威装备的自己人。

国威装备光刻总体设计部的首席工程师。

曾经主导过华夏第一台自主浸没式光刻机整机联调的贺老。

以及流体力学与流场控制组的组长。

从七机部退下来以後又被返聘过来的赵老,他已经八十二岁了,头发全白,但眼里依然有光。

还有几位名声不显,但履历随便拎一份出来都能让国内半导体圈地震的人

一共十九个人。

全部站在那台浸没式光刻机的主控台前。

没有人说话。

整个验证舱里,只能听见主控台上那几十台显示器的风扇声,和十九个人呼吸声。

所有人的目光,都盯着前方那块最大的主显示屏上。

显示屏里是浸没腔内部的实时流场可视化渲染。

以前这里是一片的混沌,里面充满了旋涡、湍流、温度梯度的复杂图案。

但现在。

在李东那套2.1版本降维算法的驱动下,那片混沌被解构成了一组一组的彩色条纹。

每一条条纹,都是算法在谱空间里识别出来的一个低维不变子空间基底。

所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项,在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。

就像有一只手,从最底层的数学结构里,把湍流这只野兽按进了一个笼子。

主显示屏下方:

【曝光焦面偏差:-0.07nm】

【迭层对准误差:0.11nm】

【算法前馈响应时间:1.8μs】

0.11纳米的对准误差。

这个数字的意义,林伟看得懂,张默看得懂,舱里那十九个人都看得懂。

这已经是ASML最新一代NXE系列EUV光刻机的工程化水平。

而这,是一台浸没式DUV。

是他们用一台物理原理上低一个代的机器,靠着一套算法,硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。

“第七次了。”

有人在林伟身後低声说了一句。

“前六次都成功了。”

“这是第七次验证。”

“贺老说,要连续成功十次以上,才能算是……稳定落地。”